Hafnium -tetraklorid | HFCL4 por | CAS 13499-05-3 | gyári ár

Rövid leírás:

A Hafnium -tetraklorid fontos alkalmazást alkalmaz a hafnium -oxid, a szerves szintézis katalizátorának, a nukleáris alkalmazásoknak és a vékony film lerakódásának prekurzoraként, kiemelve annak sokoldalúságát és fontosságát a különféle technológiai területeken.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Küldjön e -mailt nekünk

Termék részlete

Termékcímkék

Termékleírás

Rövid bevezetés

Termék neve: Hafnium -tetraklorid
CAS szám: 13499-05-3
Összetett képlet: hfcl4
Molekulatömeg: 320.3
Megjelenés: Fehér por

Meghatározás

Tétel	Meghatározás
Megjelenés	Fehér por
HFCL4+ZRCL4	≥99,9%
Zr	≤ 200ppm
Fe	≤40pm
Ti	≤20pm
Si	≤40pm
Mg	≤20pm
Cr	≤20pm
Ni	≤25pm
U	≤5pm
Al	≤60pm

Alkalmazás

Hafnium -dioxid prekurzor: A hafnium -tetrakloridot elsősorban prekurzorként használják a Hafnium -dioxid (HFO2) előállításához, amely kiváló dielektromos tulajdonságokkal rendelkező anyag. A HFO2-t széles körben használják a félvezető iparban a tranzisztorok és kondenzátorok magas K-dielektromos alkalmazásaiban. A HFCL4 elengedhetetlen a fejlett elektronikus eszközök gyártásában, mivel képes vékony hafnium -dioxid -fóliákat képezni.
Szerves szintézis katalizátor: A hafnium -tetraklorid felhasználható katalizátorként különféle szerves szintézis reakciókhoz, különösen az olefin polimerizációhoz. Lewis sav tulajdonságai elősegítik az aktív közbenső termékek kialakulását, ezáltal javítva a kémiai reakciók hatékonyságát. Ez az alkalmazás értékes a polimerek és más szerves vegyületek előállításában a vegyiparban.
Nukleáris alkalmazás: A magas neutron abszorpciós keresztmetszet miatt a hafnium -tetrakloridot széles körben használják nukleáris alkalmazásokban, különösen a nukleáris reaktorok kontroll rudakjában. A Hafnium hatékonyan képes felszívni a neutronokat, tehát ez egy megfelelő anyag a hasadási folyamat szabályozására, amely elősegíti az atomenergia -termelés biztonságának és hatékonyságának javítását.
Vékonyréteg -lerakódás: A hafnium-tetrakloridot a kémiai gőzlerakódás (CVD) folyamatokban használják, hogy vékony fóliákat képezzenek a hafnium-alapú anyagokból. Ezek a filmek elengedhetetlenek a különféle alkalmazásokban, beleértve a mikroelektronikát, az optikát és a védő bevonatot. Az egységes, kiváló minőségű filmek letétbe helyezésének képessége a HFCL4 értékessé teszi a fejlett gyártási folyamatokban.