Hafnium-tetraklorid | HfCl4 por | CAS 13499-05-3 | gyári ár

Rövid leírás:

A hafnium-tetraklorid fontos alkalmazási területekkel rendelkezik a hafnium-oxid prekurzoraként, szerves szintézis katalizátoraként, nukleáris alkalmazásokban és vékonyréteg-leválasztásban, ami kiemeli sokoldalúságát és fontosságát a különböző technológiai területeken.

More details feel free to contact: erica@epomaterial.com

Küldjön nekünk e-mailt

Termék részletei

Termékcímkék

Termékleírás

Rövid bevezetés

Termék neve: Hafnium-tetraklorid
CAS-szám: 13499-05-3
Vegyületképlet: HfCl4
Molekulatömeg: 320,3
Megjelenés: Fehér por

Specifikáció

Tétel	Specifikáció
Megjelenés	Fehér por
HfCl4+ZrCl4	≥99,9%
Zr	≤200 ppm
Fe	≤40 ppm
Ti	≤20 ppm
Si	≤40 ppm
Mg	≤20 ppm
Cr	≤20 ppm
Ni	≤25 ppm
U	≤5 ppm
Al	≤60 ppm

Alkalmazás

Hafnium-dioxid prekurzorA hafnium-tetrakloridot elsősorban prekurzorként használják a hafnium-dioxid (HfO2) előállításához, amely kiváló dielektromos tulajdonságokkal rendelkező anyag. A HfO2-t széles körben használják nagy k dielektromos alkalmazásokban tranzisztorokhoz és kondenzátorokhoz a félvezetőiparban. A HfCl4 elengedhetetlen a fejlett elektronikus eszközök gyártásához, mivel képes vékony hafnium-dioxid-rétegeket képezni.
Szerves szintézis katalizátorA hafnium-tetraklorid katalizátorként használható különféle szerves szintézisreakciókban, különösen olefin polimerizációban. Lewis-sav tulajdonságai elősegítik az aktív intermedierek képződését, ezáltal javítva a kémiai reakciók hatékonyságát. Ez az alkalmazás értékes a polimerek és más szerves vegyületek előállításában a vegyiparban.
Nukleáris alkalmazásA hafnium-tetrakloridot nagy neutronabszorpciós keresztmetszete miatt széles körben használják nukleáris alkalmazásokban, különösen az atomreaktorok szabályozórudaiban. A hafnium hatékonyan képes elnyelni a neutronokat, így alkalmas anyag a hasadási folyamat szabályozására, ami segít javítani az atomenergia-termelés biztonságát és hatékonyságát.
Vékonyréteg-lerakódásA hafnium-tetrakloridot kémiai gőzfázisú leválasztási (CVD) eljárásokban használják hafnium alapú anyagok vékony filmjeinek előállítására. Ezek a filmek számos alkalmazásban elengedhetetlenek, beleértve a mikroelektronikát, az optikát és a védőbevonatokat. Az egyenletes, kiváló minőségű filmek leválasztásának képessége értékessé teszi a HfCl4-et a fejlett gyártási folyamatokban.